证券日报网1月20日讯 ,汇成真空在接受调研者提问时表示,PVD(物理气相沉积)和CVD(化学气相沉积)是材料表面改性与薄膜制备的两大核心气相沉积技术,核心区别在于薄膜成膜的原理:PVD通过物理过程(蒸发、溅射)使源材料原子/离子沉积,CVD通过气相化学反应生成新物质并沉积,二者在工艺条件、薄膜特性、应用场景等方面也有显著差异,公司暂时仍以生产PVD设备为主。
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